Zhejiang Kinso Technology Co., Ltd. on 2,4,6-tris (2,4-dihüdroksü-3-metüülfenüül) tootja ja tarnija) Hiinas -1,3,5-triasiin CAS 434942-20-8. See seeria on loodud tootlikkuse ja tõhususe suurendamiseks.
| Tootenimi | 2, 4, 6-tris (2, 4-dihüdroksü-3-metüülfenüül) -1, 3, 5-triasiin |
| Cas nr. | 434942-20-8 |
| Einecs nr. |
|
| Molekulaarne valem | C24H21N3O6 |
| Molekulmass | 447.44 |
| Ukoos | UV-700 |
| Struktuurivalem |
 |
1. Struktuuri teave
Ühendi lähtetuum on triasiinitsükli (1,3,5-triasiin), mis asendatakse kolme fenüülrühmaga, mis sisaldavad hüdroksüül- ja metüülfunktsionaalsust. Täpsemalt, need fenüülrühmad on 2,4-dihüdroksü-3-metüülfenüül.
2. füüsikalised ja keemilised omadused
Ühend on tavaliselt tahke (kollane pulber), mille sulamistemperatuur ületab 300 ° C. Selle lahustuvus on piiratud, vee lahustuvusega umbes 3,0 × 10^-3 g/l temperatuuril 25 ° C.
1. polümeermaterjali modifikatsioon
See ühend võib olla UV -neelduja või antioksüdandina mitme fenoolse hüdroksüülrühma olemasolu tõttu selle molekulaarses struktuuris. Need rühmad võimaldavad seda vabastada vabad radikaalid ja imada ultraviolettkiirgust, suurendades seeläbi selliste plastide nagu ABS ja PBT ilmastikukindlust. Lisaks on leegi aeglustavates rakendustes kasutatud sarnaseid triasiini derivaate (nt FR 245), mis viitab sellele, et sellel ühendil võib olla termiline stabiilsus ja sobivus kõrge temperatuuriga töötlemismaterjalidele.
2. vahendid orgaanilises sünteesis
Triasiinitsükli ja hüdroksüülrühmade reaktiivsed kohad muudavad selle ühendi väärtuslikuks keerukate orgaaniliste molekulide, sealhulgas farmaatsia ja funktsionaalsete materjalide sünteesi jaoks. Metüülsendajad võivad suurendada ühendi hüdrofoobsust, muutes selle sobivaks spetsiaalsete kattete ja täiustatud funktsionaalsete materjalide väljatöötamiseks.
3. Bioloogiline ja keemiline tundmine
Hüdroksüülrühmi sisaldavatel struktuuridel võivad olla metalli kelaatimisvõimalused, mis võimaldavad potentsiaalseid rakendusi veepuhastusprotsessides või katalüütilistes süsteemides.
Hoidke ühendit valgust kaitstud tingimustes temperatuuril -20 ° C.
Vältige kokkupuudet kõrgete temperatuuride ja tugevate oksüdeerivate ainetega. Käitlemise ajal tuleks kanda kaitseseadmeid, näiteks kindaid ja prille.
